Главная Обратная связь

Дисциплины:

Архитектура (936)
Биология (6393)
География (744)
История (25)
Компьютеры (1497)
Кулинария (2184)
Культура (3938)
Литература (5778)
Математика (5918)
Медицина (9278)
Механика (2776)
Образование (13883)
Политика (26404)
Правоведение (321)
Психология (56518)
Религия (1833)
Социология (23400)
Спорт (2350)
Строительство (17942)
Технология (5741)
Транспорт (14634)
Физика (1043)
Философия (440)
Финансы (17336)
Химия (4931)
Экология (6055)
Экономика (9200)
Электроника (7621)






Векторная нанолитография представляет собой передовую систему обработки с замкнутым контуром



С появлением в нанолитографии система контроля с замкнутым контуром приобрела особое значение. Можно сказать без преувеличения, что надежность и эффективность нанолитографии зависит от этой системы. С передовой высокотехнологичной системой замкнутого контура в серии XE АСМ стало возможной реализация векторной нанолитографии.

В серии XE АСМ чувствительный фотодетектор PSPD для латерального сканера XY выполняет роль датчика замкнутого контура и PSPD управляет перемещением XY-сканера и контролирует его в режиме реального времени. Это позволяет осуществлять векторное перемещение кантилевера в плоскости XY. Другими словами, растеризация – это общий метод, который применяется в нанолитографии другими системами АСМ, он не требуется серии XE АСМ, даже при его наличии. Векторная нанолитография – это превосходная реализация характеристик в системе с замкнутым контуром.

На рисунке 2 представлены передовые возможности векторной нанолитографии. Реальное изображение на рисунке 2 (b) выполнено в форме двух окружностей и двух линий, оформлено в векторной форме, как показано на рисунке 2 (a). Ширина линий зависит от нескольких факторов, в том числе электрического напряжения и/или влажности атмосферного воздуха во время сканирования. Следует обратить внимание на отсутствие искажений изображения при условии, что линии нарисованы в векторной форме, а не в форме рисунка. Это свидетельство превосходных характеристик системы с замкнутой контуром XE АСМ.

Рисунок 2. Векторная нанолитография. Изображение выполнено в векторной форме с помощью отрицательного напряжения в диапазоне -5 и -10 В. Скорость сканирования варьируется в диапазоне значений 1-0,1 мкм/с. Высота оксидной пленки составляет примерно 2-4 нм.

 

3) XEL – передовое программное обеспечение для выполнения нанолитографии

Процесс выполнения нанолитографии XE-серии АСМ контролируется программой XEL. XEL имеет удобный пользовательский интерфейс, который делает процесс литографии таким же простым, как рисование картинки с помощью простого графического редактора. Достаточно нескольких манипуляций «мышью», что бы нарисовать, изменять размеры и перемещать объекты рисунка. Рисунки можно импортировать в растровый или векторный формат для выполнения нанолитографии.

Программа XEL имеет следующие преимущества:

o разнообразие литографических режимов;

o отдельные свойства объектов и фона;

o поддержка растрового и векторного режимов;



o удобный графический редактор.

На рисунке 3 представлен точечный рисунок, созданный с использованием напряжения между наконечником и образцом, индуцирующим окисление Si. Электрический домен пленки PZT можно включить с помощью разных напряжений между наконечником и образцом в разных положениях. Рисунок 4 отображает состояние домена: до окисления на рисунке 4 (a) и после, как показано на рисунке 4 (b), переключения домена с изображением EFM пленки PZT. Осветленные области получаются при подведении напряжения «10В», и затемненные области – напряжения «-10В».

Рисунок 3. Точечный рисунок создан с помощью (a) переключения домена на пленке PZT, (b) нанесением штрихов на пленку из поликарбоната, размер скана 30 мкм.

Рисунок 4. Литографическое изображение EFM выполнено на пленке РZT (a) до и (b) после переключения домена, размер скана 5 мкм.

 


Эта страница нарушает авторские права

allrefrs.ru - 2017 год. Все права принадлежат их авторам!